Search
Now showing items 1-2 of 2
Modélisation de la surface du silicium en présence du fluor et de l'oxygène
(UMMTO, 2018)
La gravure chimique du silicium par le plasma de fluor est l'une des techniques les plus importantes dans la fabrication de dispositifs semi-conducteurs. Le mécanisme de gravure par plasma fluoré, qui génèrent la présence ...
Etude ab initio de l'adsorption du monoxyde de carbone sur la surface Pt(001) propre et avec défauts.Application à l'étude de l'empoisonnement en CO des catalyseurs à base de platine
(UMMTO, 2018)
Le code VASP muni de la théorie de la DFT permet l'étude de différents systèmes et permet aussi d'avoir des informations sur les propriétés électroniques, structurales de différents systèmes composés d'éléments pur ou mixé ...